埃律西昂 发表于 2023-5-26 08:01

ASML High-NA光刻机将致视场（也就是单芯片极限面积）减小，GPU计算Die MCM或成必然？

本帖最后由 埃律西昂 于 2023-5-26 08:12 编辑

我查了一下，发现High-NA的单芯片极限面积是26*16.5=429mm²，而之前普通EUV的单芯片极限面积是26*33=858mm²，直接减半。

也就是说，TSMC N2（该工艺预计使用High-NA光刻机）的单芯片极限晶体管数量还不如N5？按官方资料，N2的密度应该是N5的1.5倍左右。

Neo_Granzon 发表于 2023-5-26 08:29

原来所谓的high-NA就是鸡血环？全幅F2镜头给M43当F1.2用了。

Raichu 发表于 2023-5-26 10:57

单曝光的话是的，但是可以通过图案双重曝光解决。
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