三星电子研究员：所用EUV薄膜透光率已于三季度达到90%，仅来自日本三井
来源： Sedaily原文标题： 삼성전자 "EUV '펠리클' 투과율 90%…국내 공급 업체는 없다"
三星电子透露了 EUV 薄膜的当前性能和未来技术，薄膜被认为是极紫外 （EUV） 工艺的基本材料。
据业内人士2日报道，三星电子DS部门研究员 Kang Young-seok 在近日在釜山举行的“KISM2023”大会上介绍了三星电子EUV技术利用的现状和未来。
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演讲的亮点之一是EUV薄膜的使用。“到今年第三季度，三星电子使用的EUV薄膜的透光率为90%，”Kang说，并补充说，“我们的目标是在未来将透光率提高到94~96%。
薄膜和掩模是**工艺中必不可少的材料，**工艺会反复用光打印半导体电路。薄膜充当盖子，通过阻止异物进入刻有电路的面罩上来防止缺陷。
EUV工艺中使用的薄膜是一种最先进的**工艺，其结构与现有的深紫外（DUV）薄膜完全不同。这是因为被所有物质吸收的EUV在与掩膜接触后，必须让EUV完全逃逸到薄膜外。这就是 Kang 研究员提到的“透射”的故事。这意味着只有 90% 的进入薄膜的光通过并到达掩膜。您可能无法为理论上实现的电路绘制出完美的图景。此外，与薄膜对氟化氩（ArF）的99.3%透射率相比，渗透率相对较低，这是一种通用工艺。
质量也很重要。这是因为需要防止薄膜在 EUV 通过时产生的热量而弯曲或开裂。EUV薄膜很难商业化，因为必须同时考虑透射率和质量。
据报道，三星现在正在为大客户将EUV薄膜引入一些最先进的EUV代工产品中。当然，DRAM生产线中也引入了EUV工艺，但考虑到生产率和成本，据说决定可以在没有薄膜的情况下批量生产存储器。
然而，Kang 在公告中表示，三星没有使用韩国公司的EUV薄膜。Kang 透露三星只有一家EUV薄膜供应商：日本三井物产。FST和S&S等韩国公司正在努力开发EUV薄膜，但尚未投入量产。随着工艺小型化和ASMLEUV**机数量的增加，对薄膜的需求正在增加，业界的注意力集中在谁将成为第一家与三星电子合作的韩国公司。
三星的代工竞争对手台积电（TSMC）正在使用自研EUV薄膜，已将其应用于7nm以下的生产线。 所以0e门什么时候终结？
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