华为和中芯国际为 5 纳米生产准备四重半导体图案化技术

liruyuan1988

不是说1980i这台**机的工作台精度不够，做等效7nm已经是上限了么，再多重曝光一次良品率会断崖式下跌到个位数。

liruyuan1988

光源，镜头，双工台这几个关键项目里
双工台突破了，duv就能做4重曝光了。1980i和2100i主要升级就是工作台精度提升到1nm级别。
光源已经有实验室技术了。
镜头这块脖子是被卡得最死的，euv要磨镜子磨到nm级精度，3~5年内没什么希望……